K.20-EX2自動橢圓偏振測厚儀是基于消光法（或稱“零橢偏”）橢偏測量原理，針對納米薄膜厚度測量領域推出的一款自動測量型教學儀器。 LK.20-EX2儀器適用于納米薄膜的厚度測量，以及納米薄膜的厚度和折射率同時測量。 LK.20-EX2儀器還可用于同時測量塊狀材料（如，金屬、半導體、介質）的折射率n和消光系數k。
特點
經典消光法橢偏測量原理 儀器采用消光法橢偏測量原理，易于操作者理解和掌握橢偏測量基本原理和過程。 方便安全的樣品水平放置方式 采用水平放置樣品的方式，方便樣品的取放。 緊湊的一體化結構 集成一體化設計，簡潔的儀器外形通過USB接口與計算機相連，方便使用。 高準確性的激光光源 采用激光作為探測光波，測量波長準確度高。 豐富實用的樣品測量功能 可測量納米薄膜的膜厚和折射率；塊狀材料的復折射率、樣品反射率、樣品透過率。 便捷的自動化操作 儀器軟件可自動完成樣品測量，并可進行方便的測量數據分析、儀器校準等操作。 安全的用戶使用權限管理 軟件中設置了用戶使用權限（包括：管理員、操作者等模式），便于儀器管理和使用。 可擴展的儀器功能 利用本儀器，可通過適當擴展，完成多項偏振測量實驗，如馬呂斯定律實驗、旋光測量實、旋光等。 應用
LK.20-EX2適合于教學中單層納米薄膜的薄膜厚度測量，也可用于測量塊狀材料的折射率n和消光系數k。 LK.20-EX2可測量的樣品涉及微電子、半導體、集成電路、顯示技術、太陽電池、光學薄膜、生命科學、化學、電化學、磁質存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等領域。 技術指標項目 | 技術指標 | 儀器型號 | EX2 | 測量方式 | 自動測量 | 樣品放置方式 | 水平放置 | 光源 | He-Ne激光器，波長632.8nm | 膜厚測量重復性* | 0.5nm (對于Si基底上100nm的SiO2膜層) | 膜厚范圍 | 透明薄膜：1-4000nm 吸收薄膜則與材料性質相關 | 折射率范圍 | 1.3 – 10 | 探測光束直徑 | Φ2-3mm | 入射角度 | 30°-90°，精度0.05° | 偏振器方位角讀數范圍 | 0-360° | 偏振器步進角 | 0.014° | 樣品方位調整 | Z軸高度調節：12mm 二維俯仰調節：±4° | 允許樣品尺寸 | 圓形樣品直徑Φ120mm，矩形樣品可達120mm x 160mm | 配套軟件 | * 用戶權限設置 * 多種測量模式選擇 * 多個測量項目選擇 * 方便的數據分析、計算、輸入輸出 | 最大外形尺寸 | （入射角度70°時）550*375*260mm | 儀器重量（凈重） | 約15Kg | 選配件 | * 半導體激光器 |
注：(1)測量重復性：是指對標準樣品上同一點、同一條件下連續測量30次所計算的標準差。 性能保證ISO9001國際質量體系下的儀器質量保證 專業的橢偏測量原理課程 專業的儀器使用培訓
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